第512章 研究经费

对于光刻胶的发展，目前可以分为四个阶段，KTFR光刻胶、g线/i线光刻胶、KrF光刻胶以及ArF光刻胶。

ArF光刻胶是世界最新的光刻胶技术，它继承了KrF光刻胶的基础，也属于化学放大光刻胶。

半导体工艺